描述
特點說明
標規格說明
應用介紹
特點說明
- 現有XRD機台新增生及XRR功能
- X射線反射率(XRR,X-Ray Reflectometry,X 光反射分析)
- 高精度薄膜厚度
- 薄膜介面粗造度
- 晶圓薄膜均勻度
- 低k薄膜
標規格說明
- 微聚焦(Microfocus)X射線光源
- 多層超薄鍍層純化光源鏡組
- 自動切換濾波器
- 電動樣品台(X Y Z)或增加旋轉功能
- 閃爍檢測器(Scintillation detector)
- Slit system或Pin Holder
- 選配: X光譜處理軟體及系統巨集控制軟體
應用介紹
- 在原有XRD機台上升級,無須新購設備