元素分析範圍從鈦(Ti13)~鈾(U92)
非破壞檢測、無須複雜的前處理
金屬膜厚鍍層檢測最多可檢測到5層膜厚
檢測平台由軟體控制,自動對焦及軟體控制X-Y-Z軸移動
大型樣品室設計可免除切片等樣品前處理手續
X光源:由上而下設計更加容易對焦以達到精準檢測
電鍍厚度檢測
電子/電路板多層薄膜厚度膜厚分析
準直器最小可達到0.05mm
針對大型電路板(PCB)鍍層可直接檢測膜厚及有害物質分析
可做單層電鍍分析/多層電鍍分析最多至5層膜厚分析
(W)89 x (D)62 x (H)57 (cm)
80 kg
0.1, 0.2, 0.3, 0.5, 1 mm /RoHS:1, 3mm / HF:3mm
X光管 50KV,鉬/銠/鎢/銀 靶材
高性能SDD檢測器;LOD 最低< 125eV
40~80x
AC 220V