描述
高精度薄膜 XRF 參考樣品結合了多元素質量定量能力，專為 XRF 校正與高精度測量而設計。無需基質校正，確保測量結果精確一致。其 200 nm 超薄基板可進行透射測量，並且背景訊號極低，使其適用於高靈敏度應用。
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高精度薄膜XRF參考樣品結合了多元素質量定量能力，專為XRF校正與高精度測量而設計。無需基質校正，確保測量結果精確一致。其 200 nm 超薄基板可進行透射XRF測量，並且背景訊號極低，使其適用於高靈敏度應用。
✔ 無吸收標準，無需基質校正
✔ 超薄 200 nm 基板，適用透射測量，背景訊號低
✔ 質量沉積範圍達 ng/mm²，可直接定量，無需插值計算
✔ 不確定度 ≤ 1 ng/mm²，相當於 1 層原子厚度
✔ 適用於共軛微區XRF（Confocal μ-XRF）調整
✔ 高度均勻性與均質性（誤差小於 1%）
✔ 提供多種元素組合（標準與客製化版本）
✔ 可調節厚度以確保所有元素訊號強度一致
高精度薄膜 XRF 參考樣品結合了多元素質量定量能力，專為 XRF 校正與高精度測量而設計。無需基質校正，確保測量結果精確一致。其 200 nm 超薄基板可進行透射測量，並且背景訊號極低，使其適用於高靈敏度應用。
| 尺寸 | 5×5 mm² 或 10×10 mm²，中心可用區域 2×2 mm² 或 5×5 mm²（厚度 200 nm） |
|---|---|
| 元素組合 | F 型：Pb（鉛）、La（鑭）、Pd（鈀）、Mo（鉬）、Cu（銅）、Fe（鐵）∣ |
| 質量沉積範圍 | 標準質量版本 C0：~1 ng/mm² 高質量版本 C10：~100 ng/mm² |
